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職種名リソグラフィ・OPCプロセスエンジニア微細化研究開発、シミュレーター、マスクレイアウト設計(NM0570)

更新日 2021/07/14

企業PR

テクノロジーの力で人に感動を、社会に豊かさをもたらす、最高度のイメージセンシング&センシングテクノロジーで映像クオリテイと認識機能の限界に挑戦し、あらゆるシーンにソリューションを展開。

職 種 生産技術・プロセス開発(半導体・電子部品関連)
業 種 【メーカー系(電気・電子・機械系)】
総合電機(メーカー)
事業内容

半導体関連製品と電子 ・電気機械器具の研究、開発、生産、販売事業、およびこれに関連、附帯する事業

仕事内容

【組織としての担当業務】
イメージセンサーやセンシングデバイスのリソグラフィプロセスの要素技術、およびリソグラフィインテグレーション技術の研究開発を行っています。これまで、裏面照射型のイメージセンサーや積層型イメージセンサーに開発した技術を導入し、デバイスの差異化を実現してきました。今後も、微細化や新機能を実現する為に、研究開発。

【担当予定の業務内容】
・微細化に向けて、リソシミュレーターやOPCツールを用いてリソグラフィプロセスの照明条件やマスクレイアウトの設計を行う。リソシミュレータの高精度化、OPCの高精度化のロードマップを自分達で描き、ツール等の投資も行う。この技術によるレイアウト設計の高精度化と製造フレンドリなデザインルール設定により、競争力のあるレイアウト、且つ高い生産歩留まりを実現。
・デバイスや画素の設計者、プロセスのインテグレーター、リソグラフィプロセス以外のユニットエンジニアらとも、密に深く議論しながら業務。

勤務地につきまして厚木以外に、将来的にSCK長崎TEC・熊本TEC(出向)になる可能性もございます。

【想定ポジション】 
主にコンピューテーショナルリソ技術開発における、主担当者またはリーダを担っていただくことを想定。

応募資格

【必須】
・22nm世代以降のロジック、メモリデバイスにおけるリソグラフィプロセスエンジニアの経験
・リソシミュレーションやOPCツールを用いた照明条件やマスクレイアウトを設計した経験

【尚可】
・量産現場での歩留まり向上業務経験
・OPCプログラム作成やマージナルなパターンの検出と解析が行えるスキル
・Mentor GraphicsのCalibreやASMLのBrion, SynopsysのProteusの使用スキル
・OPCモデル作成、OPCレシピ(OPC付与、マスクルールチェッカ、デザインルールチェッカ)の作成スキル
・TOEIC650点以上

【その他】
・高専卒以上
・45歳以下が望ましい

勤務地 関東 (神奈川県)
勤務時間

標準労働時間帯 9:00〜17:30(勤務時間:7時間45分 休憩:45分)
コアタイム9:30〜15:30として出勤退勤時間を選択できるフレックスタイム制あり
時間外労働あり 受動喫煙防止対策:屋内禁煙

福利・厚生

通勤手当、厚生年金基金、退職金制度、社会保険完備(健康・厚生年金・雇用・労災)、財形貯蓄制度、社員持株会など。
自分のライフスタイルにあった福利厚生を、数多くのプログラムの中から自分の意思で選択することが可能です。
各種育児関連制度をはじめ、介護休職制度、ボランティア休職制度、留学や配偶者の海外赴任への同行などを目的としたフレキシブルキャリア休職などがあります。

休日・休暇

休日:土日、祝日
休暇:年次有給休暇(初年度6〜17日、勤続年数に応じて最大24日)、年末年始休暇、年次有給休暇(20日)、特別設定休暇(3日)

求める人物像

・新しい技術の開発や業務フロー改革等、技術面だけでない困難な課題があっても、積極的に且つ責任感を持って業務を遂行できる方。また、必要な人達を巻き込むことをいとわない方
・技術課題解に対して好奇心を持ち、ご自身にもメンバーにも緻密性や正確性を求める方
・業務を楽しめる方

所在地 神奈川県
設立・創業 2015年11月
従業員数 5000名
資本金 4億円
売上高 1兆706億円
担当者名 成田 昌弘
部署名 人材開発事業部
電話番号 03-3556-5157
メールアドレス narita@careernetwork.co.jp

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